外媒：中国EUV光刻机“突围”局面基本已成定局！ - 科技资讯(健康生活网)

众所周知，就现目前来说基于一条含美技术设备的规定，阿斯麦的EUV光刻机是无法出货到中国市场的。不过所幸的是，我们对于光刻机这一方面已经列入了必须要攻克的清单当中，并且一直以来也为自研发光刻机做了实际上的行动。

而就在我们开始了自研发的进程到现在，我们国内在EUV光刻机上也获得了一些突破。如：前段时间中科院公布了招聘了相关的EUV技术的工作岗位名单，这意味着我们在EUV光刻机上已经有了一些突破行为，不然的话是没有办法将这些人才积累在一起的。

再比如说在去年的时候，中科院也完成了首台高能同步辐射的光源科研设备的安装，以及对于直线式劳埃透明镜镀膜等装置交付给了上海微电子使用。除此之外，在近日南京大学团队在宽禁带半导体EUV探测器领域实现了国际上首支宽禁半导体pn结型EUV探测器研发。

由此可见，在EUV光刻机这一方面我们正在逐步的走进自研发的进程，那么同时这就意味着凭借美技术所打造的EUV“堡垒”正在逐步的打破。就连外媒都对此评价说：中国在研究EUV光刻机上，“突围”的局面已经成为了定局。

从某种程度上来说，外媒这样的评价并不是没有道理。可以看看刚刚小编所说到的一些细节体现都恰好说明了我们在国产的EUV光刻机上完成的进展是一步比一步有希望。当然，我们要佐证这个言论并不能单纯的从我们自己研发的突破上来分析。

事实上，在ASML开始转变态度，从我们很难研究出高端的光刻机到也不是完全没有可能，我们就可以大胆的猜测恰恰是ASML有一种认可才会转变这样的言论。而除了ASML之外，还有前段时间日企的光刻胶巨头也表示了对国内光刻机研发的不看好，有趣的是，在这个表态之前我们国内也有光刻胶这样供应链的新进展。

这仔细一对比之下，就不难发现他们逮着一个“恰当”的时机来评价国内的光刻机，是有些不怀好意了。或者换句话说，正是因为我们国内突破的进展很快，才导致了他们会有相关的言论。说句不好听的，要是真的没有任何的进展，他们才懒得费口舌来评价一个毫无竞争力的对手。

不过话说回来，现如今我们在EUV光刻机越来越好的局面，证明当初美院士确实是说对了。当初在美加大自己技术堡垒的时候，美院士詹姆斯就明确表过态：如此的管控是一个很愚蠢的行为，因为这不仅降低了含美技术设备的企业在利润和市场上的份额，还会让中国企业节省很大一笔开资来进行研发，逐渐的完成国产化。

很显然，我们不断投入的资金研发，和不断坚持向前的步伐，以及逐步推进的技术突破，在未来都将进一步的降低“含美技术”企业的一些市场和利润。最关键的是，我们在未来终将不被卡脖子，做到真正的国产化。

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